隨著各類鏡頭、顯示設備、生物識別技術(shù)產(chǎn)品、5G通訊技術(shù)和終端設備，以及最近備受關注的未來“元宇宙”重要場景入口設備的AR/VR等消費類終端的創(chuàng)新發(fā)展，對光學鍍膜設備的技術(shù)工藝以及性價比要求也越來越高。
在最近落下帷幕的第23屆中國國際光電博覽會(以下簡稱CIOE2021)上，業(yè)界領先的ALD設備制造商和服務商——青島四方思銳智能技術(shù)有限公司(以下簡稱思銳智能或SRII)攜旗下Beneq品牌的重點展示內(nèi)容之一就包括ALD(原子層沉積技術(shù))的光學鍍膜應用，其因出色的膜層厚度均勻性、保形性和高性價比等特點，引發(fā)行業(yè)人士的廣泛關注。
圖1：思銳智能攜旗下Beneq品牌參展第23屆中國國際光電博覽會
圖2：ALD光學鍍膜新應用引發(fā)業(yè)界廣泛關注
ALD光學鍍膜應用方面有其獨特的優(yōu)勢，原子層沉積技術(shù)適用于在三維結(jié)構(gòu)的部件產(chǎn)品，尤其是帶有較大深寬比結(jié)構(gòu)的溝槽、微孔以及復雜曲面的產(chǎn)品上沉積高保形、高致密、高均勻性的光學薄膜。這種特性有效地彌補了現(xiàn)有的PVD鍍膜技術(shù)的不足，在現(xiàn)代光學鍍膜領域正受到越來越多的重視。
圖3：ALD技術(shù)可用于任意形狀的光學器件、球型透鏡、光柵等應用的批量鍍膜
思銳智能旗下Beneq倍耐克公司致力于開發(fā)適合光學鍍膜工業(yè)化生產(chǎn)的原子層沉積設備已有十多年的經(jīng)驗，是ALD技術(shù)和設備在光學應用最早的開拓者，積累非常深厚。公司設計和制造的P400A、P800、P1500、C2R 原子層沉積設備系列克服了同類原子層沉積設備沉積速率慢、不兼容大尺寸產(chǎn)品、難以大規(guī)模生產(chǎn)的局限，可完全滿足現(xiàn)代光學規(guī)模化、高要求的鍍膜產(chǎn)品的生產(chǎn)需要。
圖4：Beneq P系列ALD設備的產(chǎn)品特性對比
思銳智能中國區(qū)銷售總監(jiān)劉春亮表示，Beneq P系列ALD設備發(fā)展已很成熟，適合做一些大批量的產(chǎn)品，如一次做幾百片甚至幾千片的量，產(chǎn)能可觀。而且該系列均搭載高容量反應器，是從研發(fā)階段到大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)的理想工具。此外，P系列設備還支持定制反應腔的配置選項，適用于各種基底;而且反應腔易于更換，從而最大限度減少了因維護造成的停機時間。
為了進一步提升ALD的鍍膜速度以媲美傳統(tǒng)的PVD，在本屆CIOE上，Beneq還展示了最新的C2R旋轉(zhuǎn)等離子體增強型ALD(PEALD)，C2R系列是將空間ALD技術(shù)加上等離子技術(shù)結(jié)合在一起，這是思銳智能的首創(chuàng)，目前在整個ALD行業(yè)也是獨一無二的。
圖5：Beneq C2R設備能夠為客戶帶來一系列技術(shù)優(yōu)勢
相比P系列，C2R設備每批的產(chǎn)量相對較少，例如8寸的晶圓它一次能做7片，但是沉積速率很快，每小時可沉積幾微米厚的膜層，可以跟傳統(tǒng)的PVD沉積速率匹敵，令很多客戶感到驚喜?！癈2R與P系列各有各的優(yōu)勢，很好地形成了互補，滿足不同客戶得需求，也因此在本次展會上吸引了不少客戶前來了解洽談?！皠⒋毫帘硎?。
不斷拓展應用邊界，為工業(yè)和消費類光學技術(shù)創(chuàng)新賦能
據(jù)劉春亮介紹，在中國客戶應用方面，最近這兩年思銳智能的ALD設備應用很成功的領域之一就是夜視產(chǎn)品的生產(chǎn)。在大面積、高深寬比的微通道板中沉積高保形電阻和發(fā)射層薄膜材料，思銳智能的ALD設備極大地提高了微通道板的二次電子產(chǎn)額，增強了其產(chǎn)品性能?！氨热缭谖⑼ǖ腊謇锩娉练e電子發(fā)射層，再通過ALD薄膜可以在一些微孔里面做一些薄的氧化物材料，這種氧化物材料有利于光子的倍增，可以把弱光變成比較強的光，實現(xiàn)光的放大。我們幫助一些知名的國內(nèi)外夜視產(chǎn)品生產(chǎn)公司在量產(chǎn)品質(zhì)和經(jīng)濟效益方面都取得了很好的效果?！彼麖娬{(diào)道。
圖6：思銳智能中國區(qū)銷售總監(jiān)劉春亮
不僅如此，思銳智能還為國內(nèi)知名傳感器的工業(yè)視覺系統(tǒng)供應商提供的ALD層沉積設備，主要應用在曲面(玻璃圓柱體)上沉積微米級厚的低折射率和高折射率材料光學堆， 用于近紅外 (NIR) 濾光片的生產(chǎn)。 公司在為光學系統(tǒng)制造商領域的主要應用是衍射光柵中填充高折射材料，產(chǎn)生平坦的光柵結(jié)構(gòu)并保持光柵結(jié)構(gòu)清潔。同時，思銳智能的ALD設備還為越來越多的相機透鏡制造商所青睞，主要應用在小曲面透鏡上沉積均勻的減反增透薄膜材料。此外，思銳智能在硅基微顯示(Micro-OLED)薄膜封裝、LED DBR反射器的生產(chǎn)、半導體設備核心部件的保護性鍍膜等領域有廣泛的應用。
最近，業(yè)界A字頭知名公司將在自己未來的AR、VR終端透視眼鏡中采用的Micro-OLED的新聞不絕于耳，事實上Micro-OLED一定是要用到ALD設備，這對其整個性能的提升已經(jīng)被業(yè)界所公認。到目前為止，ALD已經(jīng)是Micro-OLED一個必備的生產(chǎn)工藝。
思銳智能副總經(jīng)理陳祥龍解釋說，ALD往往串聯(lián)在Micro-OLED蒸餾生產(chǎn)線上，當發(fā)光材料蒸鍍完以后，用ALD來做薄膜封裝，這里用了ALD最大的一個優(yōu)勢——即可以做非常致密的、保護性好的薄膜。在這種情況下，它可以有效阻隔水和氧，提高OLED的使用壽命。
圖7：思銳智能副總經(jīng)理陳祥龍
在Micro-OLED這端市場，思銳智能幾乎占據(jù)了整個市場90%的份額，無疑是這個行業(yè)的開拓者?！叭蜃钤缙诘囊恍┭邪l(fā)客戶用的薄膜封裝設備就是我們的ALD設備，從一開始的研發(fā)到最后生產(chǎn)，我們?nèi)潭紖⑴c了。在中國也是，如上海大學顯示器研發(fā)中心，華南理工、廣州新世界的封裝設備，還有在福州大學，基本上前端的研發(fā)設備都是我們的ALD設備，從早期的研發(fā)，到最后生產(chǎn)我們?nèi)膛浜虾蛥⑴c，幫助客戶成功?！标愊辇埥榻B說。
當然，思銳智能的ALD設備聚焦的不僅僅是上述幾大光學鍍膜應用，公司希望不斷擴大服務范圍，能夠打造成一個聚焦于光電系統(tǒng)的前端光學模組以及后端半導體器件的一站式、系統(tǒng)級ALD解決方案供應商。
思銳智能非常積極來布局整個技術(shù)的本地化，在國內(nèi)也搭建了非常強大的一個研發(fā)團隊與技術(shù)支持團隊。公司在青島、上海都建立了半導體實驗室，作為一個裝備制造企業(yè)，思銳智能希望通過本地化的技術(shù)團隊以及本地化實驗室，來為本地客戶提供不僅僅是一個設備而是一整套的研發(fā)服務，從概念驗證到中試驗證的服務，以及到最終交鑰匙的設備解決方案。
陳祥龍?zhí)寡裕骸拔覀円蚕Ｍㄟ^本地化的技術(shù)能力能夠很好地保持與客戶的黏性，同時也能把我們芬蘭全資子公司Beneq在過去將近40年的工藝積累紅利帶給中國的客戶。”
（轉(zhuǎn)載）
