2007 7月20日，Thermo Scientific 最新推出的K-Alpha X射線光電子能譜儀(XPS)獲得R&D雜志授予的2007年度R&D 100殊榮。K-Alpha的產(chǎn)品經(jīng)理Richard White表示，“K-Alpha是高精度的表面化學(xué)表征分析儀器，格外適合對物質(zhì)表面10nm的表征分析。該產(chǎn)品可以進(jìn)行定量分析，因此可以完成物質(zhì)表面的化合物分析。多達(dá)128 道的探測器快照式獲得各個(gè)掃描點(diǎn)的元素 成分和化學(xué)態(tài)信息, 從而獲得樣品表面高靈敏度化學(xué)態(tài)圖像，如濃度空間分布圖、薄膜厚度圖。它可以廣泛運(yùn)用于表面土層或超薄芯片，如涂料，半導(dǎo)體，石油化工以及眾多生產(chǎn)工業(yè)中。R&D雜志將于2007年10月舉辦年度頒獎盛會。
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