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工業(yè)連接

新型功率半導體結構使可持續(xù)能源成為可能

2025China.cn   2010年02月24日
         最新估計表明,到2050年我們所需要的能源可能會達到現(xiàn)有能源的兩倍。礦物燃料的有害影響和隱約出現(xiàn)的短缺促使人們最近開始加速尋找環(huán)境友好型、可持續(xù)發(fā)展的新能源。
  國際能源機構(IEA)稱,他們的路線是正確的,而最重要的是科技創(chuàng)新。現(xiàn)在清潔能源領域已經(jīng)吸引了大量的投資,例如,可再生能源、高能源效率和低污染技術等。但是分析家預計該領域在未來的20?30年中將會出現(xiàn)真正的投資激增。
轉變正在進行
  在20世紀,當?shù)V物燃料成為第一次工業(yè)革命推動力的時候,我們的經(jīng)濟特點是大量的人工勞動、大型工廠以及物質資料的生產(chǎn)。那時我們認為世界上的資源好像是無限的?,F(xiàn)在我們遇到了資源枯竭、礦物燃料所帶來的限制以及氣候變化的問題,這些問題使我們不得不重新考慮我們的能源消耗并轉而投向對環(huán)境更加友好的方法。
  現(xiàn)在,技術創(chuàng)新推動著我們的經(jīng)濟發(fā)展,通過服務和內(nèi)容等非物質資料來改善我們的生活質量。技術創(chuàng)新也將成為解決能源挑戰(zhàn)的關鍵,解決這項挑戰(zhàn)的唯一途徑便是大規(guī)模開發(fā)利用可再生能源,并以一切可以想到的方式來節(jié)省能源。
  電子行業(yè)在這項轉變中將承擔重要的角色。用于產(chǎn)生可再生能源的技術,例如光伏系統(tǒng)、非糧食型生物燃料、風能以及混合動力汽車,得到了著名芯片公司的關注。
技術解決方案
  不過,引入可再生能源資源來發(fā)電會給現(xiàn)有的電力網(wǎng)絡基礎設施帶來新的挑戰(zhàn):
  如何解決負載數(shù)量的增多,如何將各種非本地的能量來源集成到同一電力網(wǎng)格上,如何解決不同能量來源之間的波動(考慮到風力發(fā)電廠),如何更高效地傳送電力,如何確保電力供應的高可靠性和高穩(wěn)定性,這些都是我們面臨的新挑戰(zhàn)。
  這些挑戰(zhàn)推動著“智能電網(wǎng)”向前發(fā)展。智能電網(wǎng)將有助于實現(xiàn)可再生能源和傳統(tǒng)能源的高效集成,根據(jù)資源的可用性和用戶的需求來管理電力分配。同大多數(shù)即將出現(xiàn)的新型節(jié)能技術一樣,智能電網(wǎng)的發(fā)展將由功率轉換系統(tǒng)的進步所推動,特別是功率電子器件的進步。其結果將是,能源供應的效率和可靠性提高,而能源消耗反而降低。
  除了改變行為以及提倡在住宅和辦公建筑中進行節(jié)能活動之外,一些新的技術解決方案,例如,基于傳感器的高效智能的ICT(信息與通信技術)系統(tǒng)、更高效的功率轉換以及固態(tài)照明,將會有助于減少能源消耗。
功率電子技術的角色
  用于產(chǎn)生和轉換能量的功率電子技術覆蓋了ICT的供電、電機驅動,太陽能轉換器以及混合動力電動車輛等大量應用?,F(xiàn)在,超過60%的電能會流經(jīng)硅基器件。改善功率電子系統(tǒng)的性能似乎日益成為顯著降低電力消耗的關鍵因素。
  必須開發(fā)出能夠在高電壓、高電流密度和高溫條件下工作的更高效、更快且更可靠的固態(tài)器件。對于半導體開發(fā)人員來說,這是非常具有挑戰(zhàn)性的。功率電子器件正在接近硅材料的固有極限。
  能源產(chǎn)生器件的進一步創(chuàng)新和改善將需要使用寬帶隙半導體,后者能夠用于生產(chǎn)具有較高擊穿電壓的器件。其中,最好的備選材料似乎是III族氮化物寬帶隙材料,因為它們同時具備高電壓和高電子速度,從而顯著降低了在高壓下的開關和傳導損耗。
  這些寬帶隙半導體將成為更新、更清潔技術的基礎,例如,在混合動力汽車行業(yè)或太陽能轉換器中。的確,盡管它們僅僅代表了整個半導體市場大約10%的份額,但是功率電子行業(yè)的復合增長率(>11%)要高于整個半導體行業(yè)(大約7%)。
  但是,當新型功率電子技術的成本與現(xiàn)有解決方案不相上下時,它只能作為現(xiàn)有技術的替代者或新技術的催生者來被市場接受。因此,最為重要的是找到能夠提供性能和成本最佳結合點的材料和工藝。氮化鎵(GaN)被證明就是這樣的一種材料。
  在IMEC,我們曾對擊穿電壓超過1000V的硅基GaN開關器件進行了演示,其傳導損耗要比現(xiàn)有最好的Si基功率電子器件低一個數(shù)量級。更高的開關頻率還允許我們顯著地減小功率轉換器的尺寸,為功率電子的更高密度集成開啟了非常有趣的前景。另外,GaN具有非常有前途的低功耗前景。
  現(xiàn)在,GaN等寬帶隙半導體是通過在昂貴的小直徑襯底(例如,藍寶石和SiC)上外延生長得到的。使用Si作為III族氮化物元件的襯底不僅更便宜,而且具有通過增加晶圓直徑來降低成本的良好前景。
  3族氮化物是目前唯一能夠在直徑6英寸的晶圓上生長的寬帶隙半導體,非常有可能在短期內(nèi)用于更大的晶圓直徑。有人曾在200mm硅晶圓上生長過GaN。
  最后一點也不容忽視:如果能夠開發(fā)出與硅工藝流程兼容的工藝,那么也可以通過利用硅基技術的經(jīng)濟規(guī)模優(yōu)勢來降低硅基GaN的成本。這些正是IMEC對硅基GaN技術研究的關鍵推動力。
  此外,最近IMEC基于雙異質結FET結構的生長,將高擊穿電壓和低導通電阻結合在一起并實現(xiàn)了器件的E-模式運轉。為了安全起見,應用通常需要E-模式運轉。這些成果使得IMEC極有可能在硅基GaN功率器件市場上獲得巨大機遇。

(轉載)

標簽:新型 功率半導體 可持續(xù)能源 我要反饋 
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